Название статьи:
ОСОБЕННОСТИ ФОРМИРОВАНИЯ ТРАНЗИСТОРОВ СО ВСТРОЕННЫМ И ИНДУЦИРОВАННЫМ КАНАЛОМ В ОДНОМ КМДП ТЕХНОЛОГИЧЕСКОМ ПРОЦЕССЕ
Авторы:
Андреев В. В., Двухшерстнов А. С., Гурин В. М., Шмелькова А. А., Мельникова Я. В., Филлипович М. Е.
Ключевые слова: Интегральная микросхема, МДП транзистор, КМДП технологический процесс, вольт-амперная характеристика, встроенный канал, индуцированный канал.
Страницы: 78-88
Аннотация: В статье представлен процесс получения МДП транзисторов со встроенным и индуцированным каналом в едином технологическом процессе. Рассмотрена физическая структура кристалла, получаемая при одновременном формировании МДП транзисторов двух типов. Исследовано влияние дозы загонки бора в карман p-типа на характеристики МДП- транзисторов с разным типом каналов. Проведена оценка влияния технологических режимов формирования МДП транзисторов на их вольт-амперные характеристики.
Полный текст статьи недоступен
Скачать полный текст статьи
Журнал индексируется в Российском индексе научного цитирования (РИНЦ)
Журнал "Оригинальные исследования (ОРИС)" (включен в РИНЦ) ведет прием статей в ближайший номер до 25 ноября 2024 г.
Архив выпусков
- 2024 - Том 14, Выпуск 9
- 2024 - Том 14, Выпуск 8
- 2024 - Том 14, Выпуск 7
- 2024 - Том 14, Выпуск 6
- 2024 - Том 14, Выпуск 5
- 2024 - Том 14, Выпуск 4
- 2024 - Том 14, Выпуск 3
- 2024 - Том 14, Выпуск 2
- 2024 - Том 14, Выпуск 1
- 2023 - Том 13, Выпуск 12
-
Весь архив