Plasma Chemistry and Plasma Processing

Научный журнал Plasma Chemistry and Plasma Processing включен в БД Скопус. По данным на 2020 год, показатель SJR равен 0.59. Журнал издается Kluwer Academic/Plenum Publishers. Страной издательства журнала является Соединенные Штаты Америки. Основными предметными областями публикуемых статей являются Химическая технология (все науки), Химия (все науки), Поверхности, покрытия и пленки, Физика конденсированных сред.

Перед отправкой научной статьи мы рекомендуем выполнить проверку статьи на соответствие базовым требованиям к научным работам с помощью сервиса "Экспресс-аудит". Услуга «Экспресс-аудит» позволит автору лучше понять, насколько статья готова к публикации, произвести её доработку до подачи в журнал. Эксперты ORES с большим опытом публикации в рецензируемых журналах производят комплексную проверку по десяткам параметров, и могут дать предложения по улучшению структуры и логики содержания, правописанию и т.д.

Percentile Scopus ASJC Code Scopus Sub-Subject Area Quartile
83 2508 Поверхности, покрытия и пленки 1
79 1600 Химия (все науки) 1
83 1500 Химическая технология (все науки) 1
81 3104 Физика конденсированных сред 1
CiteScore Source ID
5,4 https://scopus.com/sourceid/13689
Web Site Articles in 2018 Articles in 2019 Articles in 2020
Link 80 94 118

Другие журналы в этой предметной области

ISSN
Название
Показатели
  • ISSN: 02724324
  • Научный журнал включен в БД Скопус.

Мы тестируем новый сервис подбора журналов

Теперь найти подходящее вам издание будет намного проще и быстрее. Попробуйте его в Телеграме тут - ORESJournalBot и будем рады вашей обратной связи:)

Давайте попробуем